-
1 Reactive Ion Etching
Универсальный русско-английский словарь > Reactive Ion Etching
-
2 Magnetically Enhanced Reactive Ion Etching
Electronics: MERIEУниверсальный русско-английский словарь > Magnetically Enhanced Reactive Ion Etching
-
3 Metal Organic Reactive Ion Etching
Electronics: MORIEУниверсальный русско-английский словарь > Metal Organic Reactive Ion Etching
-
4 deep reactive ion etching
Engineering: DRIEУниверсальный русско-английский словарь > deep reactive ion etching
-
5 metal-organic reactive ion etching
Semiconductors: MORIEУниверсальный русско-английский словарь > metal-organic reactive ion etching
-
6 reactive ion-beam etching
Optics: RIBEУниверсальный русско-английский словарь > reactive ion-beam etching
-
7 ion-beam assisted reactive etching
Microelectronics: IBAEУниверсальный русско-английский словарь > ion-beam assisted reactive etching
-
8 реактивное ионное травление
Русско-английский физический словарь > реактивное ионное травление
-
9 реактивное ионное травление
Русско-английский словарь по электронике > реактивное ионное травление
-
10 реактивное ионное травление
Русско-английский словарь по радиоэлектронике > реактивное ионное травление
-
11 реактивное ионное травление
1) Engineering: reactive ion milling2) Electronics: ion-assisted plasma etching3) Microelectronics: reactive ion etching, reactive-ion etchingУниверсальный русско-английский словарь > реактивное ионное травление
-
12 глубинное реактивное ионное травление
1) Engineering: Deep Reactive Ion Etching2) Microelectronics: DRIE (Deep Reactive Ion Etching)Универсальный русско-английский словарь > глубинное реактивное ионное травление
-
13 глубокое реактивное ионное травление
глубокое реактивное ионное травление
Метод используется для установки границ глубоких геометрических конфигураций в кремнии; необходим для формирования структур MEMS.
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
EN
Русско-английский словарь нормативно-технической терминологии > глубокое реактивное ионное травление
-
14 РИТ
1) Military: радиоизотопный источник тепла2) Microelectronics: reactive-ion etching -
15 глубокое реактивное ионное травление
Engineering: deep reactive ion etchingУниверсальный русско-английский словарь > глубокое реактивное ионное травление
-
16 реактивное ионное травление в среде водорода
Microelectronics: hydrogen reactive ion etchingУниверсальный русско-английский словарь > реактивное ионное травление в среде водорода
-
17 реактивное ионно-лучевое травление
Engineering: reactive ion-beam etchingУниверсальный русско-английский словарь > реактивное ионно-лучевое травление
-
18 реактивное травление с применением ионного пучка
Microelectronics: ion-beam assisted reactive etchingУниверсальный русско-английский словарь > реактивное травление с применением ионного пучка
См. также в других словарях:
Reactive-ion etching — (RIE) is an etching technology used in microfabrication. It uses chemically reactive plasma to remove material deposited on wafers. The plasma is generated under low pressure (vacuum) by an electromagnetic field. High energy ions from the plasma… … Wikipedia
Reactive-ion etching — Gravure ionique réactive La gravure ionique réactive ou gravure par ions réactifs très souvent appelée par son acronyme anglophone, RIE (pour Reactive Ion Etching), est une technique de gravure sèche des semi conducteurs. Il s agit d une… … Wikipédia en Français
Reactive Ion Etching — Gravure ionique réactive La gravure ionique réactive ou gravure par ions réactifs très souvent appelée par son acronyme anglophone, RIE (pour Reactive Ion Etching), est une technique de gravure sèche des semi conducteurs. Il s agit d une… … Wikipédia en Français
reactive ion etching — reaktyvusis joninis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reactive ion etching; reactive ion milling vok. reaktives Ionenätzen, n rus. реактивное ионное травление, n pranc. décapage ionique réactif, m … Radioelektronikos terminų žodynas
Deep reactive-ion etching — (DRIE) is a highly anisotropic etch process used to create deep penetration, steep sided holes and trenches in wafers, with aspect ratios of 20:1 or more. It was developed for microelectromechanical systems (MEMS), which require these features,… … Wikipedia
Deep Reactive Ion Etching — Reaktives Ionentiefenätzen (engl. Deep Reactive Ion Etching, DRIE), eine Weiterentwicklung des reaktiven Ionenätzen (RIE), ist ein hoch anisotroper Trockenätzprozess für die Herstellung von Mikrostrukuren in Silicium mit Aspektverhältnissen (das… … Deutsch Wikipedia
reactive ion milling — reaktyvusis joninis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reactive ion etching; reactive ion milling vok. reaktives Ionenätzen, n rus. реактивное ионное травление, n pranc. décapage ionique réactif, m … Radioelektronikos terminų žodynas
reactive ion-beam etching — reaktyvusis jonpluoštis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reactive ion beam etching vok. reaktives Ionenstrahlätzen, n rus. реактивное ионно пучковое травление, n pranc. décapage par faisceau d ions réactifs, m … Radioelektronikos terminų žodynas
Etching (microfabrication) — Etching tanks used to perform Piranha, Hydrofluoric acid or RCA clean on 4 inch wafer batches at LAAS technological facility in Toulouse, France Etching is used in microfabrication to chemically remove layers from the surface of a wafer during… … Wikipedia
Ion-beam sculpting — Ion Beam scultping is a term used to describe a two step process to make solid state nanopores. The term itself was coined by Golovchenko and co workers at Harvard in the paper Ion beam sculpting at nanometer length scales [J. Li, D. Stein, C.… … Wikipedia
Ion beam — An ion beam is a type of particle beam consisting of ions. Ion beams have many uses in electronics manufacturing (principally ion implantation) and other industries. Today s ion beam sources are typically derived from the mercury vapor thrusters… … Wikipedia